微細化と製造コスト・消費電力削減ニーズに対応

大日本印刷 (DNP)は12月9日、半導体の回路パターン形成に使用するナノインプリントリソグラフィ (NIL)向けに、1.4nm世代相当のロジック半導体にも対応可能な、回路線幅10nmのテンプレート (型)を開発したことを発表した。